SEMICON Korea 2018

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챔버 플라즈마 모니터

Pulsed Plasma를 사용하는 Etching, Deposition 등의 공정에서 실제 Pulse 파형이 정확히 유지되고 있는가를 실시간 Monitoring 하는 광학 센서입니다. More...

EPD / OES

반도체/디스플레이 제조 공정 챔버 내부의 Plasma를 분광 분석법으로 분석하여 공정의 종료점을 자동 검출하거나 공정의 변화 상태를 모니터링하는 센서입니다. More...

SPOES

소형 Plasma Module을 내장하여 반도체/디스플레이 제조 설비의 배기 라인으로 배출되는 Gas를 분석함으로써 공정 변화 상태를 모니터링하는 센서입니다. More...