Bernin, FRANCE (21 Septembre, 2016) – CORIAL, fabricant Français de machines de dépôt et gravure par technologie plasma pour les marchés du semi-conducteur, des MEMS, des LEDs et de la R&D, annonce la sortie de sa nouvelle génération de machine de gravure 200 mm.
Depuis sa création, CORIAL a mis en place une politique produit basée sur l’amélioration continue des machines à son catalogue. « Avec cette nouvelle génération de machine ICP-RIE 200 mm, nous permettons à nos clients actuels ainsi qu’à nos futurs clients d’avoir accès à une gamme élargie de procédés de gravure de matériaux, notamment la gravure profonde (> 100 µm) de matériaux durs. » s’est réjoui Elsa Bernard-Moulin, Responsable Marketing chez CORIAL.
La gravure profonde de silicium, par le procédé Bosch ou par le procédé cryogénique, est devenue une étape cruciale pour des applications telles que les MEMS (micro-electro-mechanical systems), l’optique intégrée, ou encore le packaging de dispositifs. Le défi principal consiste à graver des structures microniques en profondeur, tout en conservant un profil de gravure vertical, une bonne uniformité de gravure et un rapport d’aspect élevé. Obtenir de telles structures dans des matériaux durs tels que le verre, le carbure de silicium, le saphir ou le niobate de lithium pourrait donner lieu à des possibilités inattendues dans les domaines des MEMS, du packaging et des dispositifs semi-conducteurs de puissance.
« Nous avons amélioré notre machine de gravure en l’équipant notamment de sources ICP et RF plus puissantes, d’un liner amovible, d’un système de pompage plus performant, et d’une optimisation du système de refroidissement des substrats. Ces évolutions de notre machine ICP-RIE, associées au savoir-faire de notre équipe de R&D, nous ont permis de développer des procédés de gravures profondes de matériaux durs rapides et répondant aux exigences du marché. » a déclaré Elsa Bernard-Moulin.
Exemples de performances obtenues pour la gravure profonde de matériaux durs
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Matériau
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Vitesse de gravure (µm/min)
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Profondeur de gravure (µm)
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Sélectivité
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Verre
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0.5 à 1
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> 100
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> 20
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Carbure de silicium
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1.5 à 2
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> 100
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> 25
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Niobate de lithium
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> 0.3
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> 100
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> 10
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Pour obtenir de plus amples informations, merci de contacter Elsa Bernard-Moulin, Responsable Marketing: e-bernard-moulin@corial.net
A propos de CORIAL
La société CORIAL est spécialisée dans les techniques de dépôt et gravure par plasma. Elle a pour objet d’étudier, de concevoir et de réaliser des équipements de gravure et dépôt par plasma dédiés à la R&D ainsi qu'à la production pour l'industrie du semi-conducteur, des LEDs ainsi que les industries connexes. Développer et mettre en œuvre les procédés appliqués à ces équipements afin d'en tirer les meilleures performances en adéquation avec les besoins des industriels est le cœur de métier de CORIAL. Par le biais de son réseau indépendant, CORIAL distribue ses produits en Asie (Chine, Taiwan, Corée, Malaisie), en Russie et en Europe.